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  • 冷却水循环装置

    CAE-1300A(S)CAE-1300A(S)冷却水循环装置  KM-02445-00

    达到± 0.1℃精确的温度控制;使用周囲温度(設置環境)温度Max.40℃环境温度环境(设立)Max.40℃温度;RoHS対応製品 RoHS规范 
    产地:日本详细信息>>  
  • 冷却水循环装置

    CAE-2000A(S)CAE-2000A(S)冷却水循环装置  KM-02446-00

    达到± 0.1℃精确的温度控制;使用周囲温度(設置環境)温度Max.40℃环境温度环境(设立)Max.40℃温度;RoHS対応製品 RoHS规范 
    产地:日本详细信息>>  
  • 冷却水循环装置

    CA-353LCA-353L冷却水循环装置  KM-02447-00

    循环方式: 密闭式循环;温度控制方式:变频控制;温度设定范围: -15~10℃ (不加热;温度调节精度: ±2℃  冷却能力: 1740/2090W(1500/1800kcal/h)at液温0℃
    产地:日本详细信息>>  
  • 冷却水循环装置

    CA-352HCA-352H冷却水循环装置  KM-02448-00

    循环方式: 密闭式循环;温度控制方式:变频控制;温度设定范围: 5~25℃ (不加热;温度调节精度: ±2℃;冷却能力: 48800/5350W(4200/4600kcal/h)at液温20℃
    产地:日本详细信息>>  
  • 冷却水循环装置

    CA-502HCA-502H冷却水循环装置  KM-02449-00

    循环方式: 密闭式循环;温度控制方式:变频控制;温度设定范围: 5~25℃ (不加热;温度调节精度: ±2℃;冷却能力: 6400/7090W(5500/6100kcal/h)at液温20℃
    产地:日本详细信息>>  
  • 冷却水循环装置

    CA-1002HCA-1002H冷却水循环装置  KM-02450-00

    循环方式: 密闭式循环;温度控制方式:变频控制;温度设定范围: 5~25℃ (不加热;温度调节精度: ±2℃;冷却能力: 11000/12200W(9500/10500kcal/h)at液温20℃
    产地:日本详细信息>>  
  • 低温恒温水循环装置

    NCC-1110ANCC-1110A低温恒温水循环装置  KM-02451-00

    对电子显微镜、分光光度计光源部分进行冷却,对反应槽、焊接装置、半导体制造装置等进行温度控制。针对温度调节器,特别设立了独立过升防止器
    产地:日本详细信息>>  
  • 低温恒温水循环装置

    NCC-1120ANCC-1120A低温恒温水循环装置  KM-02452-00

    对电子显微镜、分光光度计光源部分进行冷却,对反应槽、焊接装置、半导体制造装置等进行温度控制。针对温度调节器,特别设立了独立过升防止器。
    产地:日本详细信息>>  
  • 低温恒温水循环装置

    NCC-1210BNCC-1210B低温恒温水循环装置  KM-02453-00

    对电子显微镜、分光光度计光源部分进行冷却,对反应槽、焊接装置、半导体制造装置等进行温度控制。针对温度调节器,特别设立了独立过升防止器
    产地:日本详细信息>>  
  • 低温恒温水循环装置

    NCC-1410ANCC-1410A低温恒温水循环装置  KM-02454-00

    对电子显微镜、分光光度计光源部分进行冷却,对反应槽、焊接装置、半导体制造装置等进行温度控制, 针对温度调节器,特别设立了独立过升防止器
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