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  • 冷却水循环装置

    CA-1002HCA-1002H冷却水循环装置  KM-02450-00

    循环方式: 密闭式循环;温度控制方式:变频控制;温度设定范围: 5~25℃ (不加热;温度调节精度: ±2℃;冷却能力: 11000/12200W(9500/10500kcal/h)at液温20℃
    产地:日本详细信息>>  
  • 低温恒温水循环装置

    NCC-1110ANCC-1110A低温恒温水循环装置  KM-02451-00

    对电子显微镜、分光光度计光源部分进行冷却,对反应槽、焊接装置、半导体制造装置等进行温度控制。针对温度调节器,特别设立了独立过升防止器
    产地:日本详细信息>>  
  • 低温恒温水循环装置

    NCC-1120ANCC-1120A低温恒温水循环装置  KM-02452-00

    对电子显微镜、分光光度计光源部分进行冷却,对反应槽、焊接装置、半导体制造装置等进行温度控制。针对温度调节器,特别设立了独立过升防止器。
    产地:日本详细信息>>  
  • 低温恒温水循环装置

    NCC-1210BNCC-1210B低温恒温水循环装置  KM-02453-00

    对电子显微镜、分光光度计光源部分进行冷却,对反应槽、焊接装置、半导体制造装置等进行温度控制。针对温度调节器,特别设立了独立过升防止器
    产地:日本详细信息>>  
  • 低温恒温水循环装置

    NCC-1410ANCC-1410A低温恒温水循环装置  KM-02454-00

    对电子显微镜、分光光度计光源部分进行冷却,对反应槽、焊接装置、半导体制造装置等进行温度控制, 针对温度调节器,特别设立了独立过升防止器
    产地:日本详细信息>>  
  • 低温恒温水循环装置

    NCC-1420BNCC-1420B低温恒温水循环装置  KM-02455-00

    对电子显微镜、分光光度计光源部分进行冷却,对反应槽、焊接装置、半导体制造装置等进行温度控制。针对温度调节器,特别设立了独立过升防止器。
    产地:日本详细信息>>  
  • 低温恒温水循环装置

    NCC-2120ANCC-2120A低温恒温水循环装置  KM-02456-00

    对电子显微镜、分光光度计光源部分进行冷却,对反应槽、焊接装置、半导体制造装置等进行温度控制。针对温度调节器,特别设立了独立过升防止器。
    产地:日本详细信息>>  
  • 低温恒温水循环装置

    NCC-2120BNCC-2120B低温恒温水循环装置  KM-02457-00

    对电子显微镜、分光光度计光源部分进行冷却,对反应槽、焊接装置、半导体制造装置等进行温度控制。针对温度调节器,特别设立了独立过升防止器。
    产地:日本详细信息>>  
  • 低温恒温水循环装置

    NCC-2420ANCC-2420A低温恒温水循环装置  KM-02458-00

    对电子显微镜、分光光度计光源部分进行冷却,对反应槽、焊接装置、半导体制造装置等进行温度控制。针对温度调节器,特别设立了独立过升防止器。标准装配了温度记录仪输出、报警输出端口、外部温度传感器端口
    产地:日本详细信息>>  
  • 低温恒温水循环装置

    NCC-2420BNCC-2420B低温恒温水循环装置  KM-02459-00

    对电子显微镜、分光光度计光源部分进行冷却,对反应槽、焊接装置、半导体制造装置等进行温度控制。针对温度调节器,特别设立了独立过升防止器。
    产地:日本详细信息>>  
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