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半导体单晶薄膜分子束外延生长中的气流量控制
解答时间:2011/7/4 浏览次数:457 专家:

最佳答案

     某高校在分子束外延技术上在国内享有很高的声誉,与众多知名企业合作研发分子束外延设备,
之前该校某研究所使用北京某国产的气体质量流量控制器为半导体衬底沉积单晶薄膜,所沉积的膜层不
均,平滑度不好,生长速度慢,在工作中受高温和高强的影响,膜层容易起皮甚至脱落,界面原子级粗
糙,生长出来的半导体器件性能不好。
     分析其原因,主要是因为气体质量流量控制器在中弧光放电条件下工作受到磁场的干扰对反应气体
的控制不稳定,气体响应滞后,控制精度不高导致的。
     我公司根据这种产品的工艺要求为该企业定制两台气体质量流量控制器,一台为氮气,流量为
200SCCM,一台为氩气,流量为200SCCM,通过接上该设备,发现膜层明显均匀,而且附着力很强,强
度非常高,生长出来的衬底做成半导体器件性能好。
     为分子束外延生长技术要求对反应气体的进气流量要求非常稳定,否则对于由分子束外延设备生长
出来的材料用于半导体制造业上,会产生元器件的性能不好,影响整个集成电路的性能,在生长过程中
对气特性的响应时间要求快,否则膜层的平滑度不好,膜层不均匀,导电性能差,我公司代理的差压式
气体质量流量控制器在分子束外延设备中的效果非常好,客户表示将我公司V10FD-LC气体质量流量控
制器逐步替换掉北京某国产产品。

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V10FD-B大流量流量计  
订货号:MM-04019-00
品牌:塞尔瑟斯
产地:加拿大
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上架时间:2011/1/27
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产品描述:

可选低压/中压/高压三种传感器,配合大流量层流管结构用于300SLM以上的流量控制。该产品为模拟和数字兼容型设计:可通过模拟型二次表或PLC进行设定和显示瞬时流量;也可通过数字接口直接与计算机进行通讯。具有通用于模拟型控制系统和数字型控制系统的特点。
● 专用于大流量的层流管结构                                                  
● 响应速度100ms,无需预热,上电即可操作
● 无热漂移,长期稳定性0.1%F.S/年
● 数模兼容,可使用二次表或计算机控制和显示流量
● 内置阀控指示灯/通讯指示灯/流量指示灯
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